@inproceedings{oai:repository.ninjal.ac.jp:00002579,
 author = {太田, 守洋 and 山本, 健 and Ohta, Morihiro and Yamamoto, Ken},
 book = {言語資源活用ワークショップ発表論文集, Proceedings of Language Resources Workshop},
 month = {},
 note = {会議名: 言語資源活用ワークショップ2019, 開催地: 国立国語研究所, 会期: 2019年9月2日−4日, 主催: 国立国語研究所 コーパス開発センター, 本研究では漢字の形を統計的に分析する。漢字のサイズを特徴づける基本的な指標として画数があり、画数が多い漢字ほど複雑な形である傾向がある。一方、漢字を構成する線の長さが形の複雑性を表すとみなすことができる。本研究では、漢字の線長をコンピュータのフォントを用いて計測し、線長と画数の関係を調べた。その結果、漢字の線長は画数に対しておおむねベキ乗則にしたがって増加することがわかった。さらに、フラクタル図形を基にした数学的なモデルを導入し、ベキ乗則の指数とフラクタル次元の関係を理論的に導出した。この関係を漢字のベキ指数に適用すると、フラクタル次元はおよそ2次元となった。すなわち、漢字の形は画数の増加とともに平面充填的に複雑化するといえる。, application/pdf, 琉球大学, 琉球大学, University of Ryukyus, University of Ryukyus},
 pages = {149--154},
 publisher = {国立国語研究所},
 title = {漢字の形における統計則},
 volume = {4},
 year = {2019},
 yomi = {オオタ, モリヒロ and ヤマモト, ケン}
}